金屬用研磨液及研磨方法名稱：金屬用研磨液及研磨方法技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明是關(guān)于在半導(dǎo)體裝置的配線形成過(guò)程中的研磨中，特別適合使用的金屬用研磨液及研磨方法。背景技術(shù)：近年來(lái)，伴隨半。

研磨薄膜：超級(jí)表面處理的精密研磨系統(tǒng)_技術(shù)_中國(guó)涂附磨具網(wǎng)研磨薄膜的結(jié)構(gòu)有四大要素：（1）基材：聚脂薄膜857(PET)，縱橫向抗拉強(qiáng)度大、伸縮性小、強(qiáng)韌、厚度均勻、平穩(wěn)?；牡暮穸葮?biāo)準(zhǔn)為：25、50、75μm。隨著現(xiàn)在自動(dòng)。

金屬蝕刻方法應(yīng)用技術(shù)顯示基板的制造方法及銅系金屬膜用蝕刻液組合物6、含銅酸性蝕刻液循環(huán)再生回用設(shè)備及方法7、蝕刻液組合物及應(yīng)用它的蝕刻方法8、酸性蝕刻液循環(huán)再生的電解槽裝置、系統(tǒng)。

拉絲模中金剛石薄膜的研磨拋光方法-阿里巴巴專欄標(biāo)簽：近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外的學(xué)者通過(guò)大量的研究和試驗(yàn)，提出了許多新的金剛石薄膜的拋光方法，包適化學(xué)輔助機(jī)械拋光、激光拋光、熱化學(xué)拋光、離子束拋光、電火花拋光等[2-。

一種剝離材料表面鍍覆的金屬薄膜的方法名稱：一種剝離材料表面鍍覆的金屬薄膜的方法技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明屬于材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種剝離材料表面附著的金屬薄膜的方法。背景技術(shù)：將材料表面。

一種研磨墊修整器及研磨墊修整方法名稱：一種研磨墊修整器及研磨墊修整方法技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備及其使用方法，尤其涉及一種研磨墊修整器及研磨墊修整方法。背景技術(shù)：隨著半。

.8-一種金屬沉積后薄膜內(nèi)粒子的重新加工方法-。本發(fā)明的金屬沉積后薄膜內(nèi)粒子的重新加工方法包括下列步驟：步驟1，通過(guò)金屬蝕刻機(jī)臺(tái)蝕刻掉部分含有粒子的金屬薄膜層；步驟2，通過(guò)化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(tái)研磨經(jīng)步驟1后剩余的。

Cmp用研磨液及使用其的研磨方法-西域名稱Cmp用研磨液及使用其的研磨方法技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及CMP用研磨液及使用其的研磨方法，特別涉及適于半導(dǎo)體晶片材料的化學(xué)機(jī)械研磨（CMP）的CMP用研磨液及使用。

研磨薄膜磁頭_薄膜磁頭,噴墨頭,研磨薄膜磁頭加工工藝技術(shù)配方專。研磨薄膜磁頭加工工藝技術(shù)配方專題（新版）的詳細(xì)頁(yè)面。培訓(xùn)方式：線下。訂購(gòu)編號(hào)：a薄膜磁頭的制造方法及其制造裝置029在薄膜磁頭中形成有圖案的金屬層。

研磨片和研磨方法本發(fā)明涉及一種優(yōu)選用于研磨薄膜磁頭的氣體軸承表面（ABS）的研磨片和研磨方法。安裝于計(jì)算機(jī)硬盤驅(qū)動(dòng)器上的主流磁頭是薄膜磁頭，例如復(fù)合磁阻感應(yīng)類型磁頭（MR-。